大金 DUPRA DU551 密封圈兼具 PTFE 的耐溫耐腐性能與橡膠優(yōu)異彈 性，產(chǎn)品從原料、混煉、成型至包裝全部在 Class100‑10000 級(jí)無(wú)塵 室內(nèi)完成，金屬雜質(zhì)含量控制在 10ppm 以下。DUPRA 全系列擁有 DU351、DU341、DU353 (E)、DU3R1 (E)、DU354 等完整材料型號(hào)矩陣； DU551 主打超耐熱性能，支持低粘著 (E) 版本，具備低析出、優(yōu)良耐 氣體與耐化學(xué)性能，以 O 型圈、密封墊片、緩沖件形式，廣泛適配半 導(dǎo)體熱處理、LPCVD 等高溫腔體，也可應(yīng)用于化工成套設(shè)備的高溫嚴(yán)苛 密封工況；等離子刻蝕、濕法清洗工況建議選用對(duì)應(yīng)專用型號(hào)。

一、核心材料性能

1. 高溫穩(wěn)定性、低釋氣 DU551 可在 325℃長(zhǎng)時(shí)間服役，高溫環(huán)境重量減少遠(yuǎn)優(yōu)于市面競(jìng)品熱處理 FFKM 牌 號(hào)，高溫下不易溶解失效，降低腔體內(nèi)部析出物污染晶圓風(fēng)險(xiǎn)；300℃ 長(zhǎng)時(shí)間壓縮后壓縮 變形表現(xiàn)優(yōu)異，高溫下長(zhǎng)期維持密封彈性，減少密 封圈更換頻次，提升設(shè)備稼動(dòng)率大金清研先...。
2. 高潔凈低金屬析出 全套無(wú)塵生產(chǎn)，金 屬總含量控制 10ppm 以內(nèi)，避免金屬離子析出造成半導(dǎo)體器件電氣劣 化，保障芯片良率。
3. 耐臭氧、水蒸氣耐受 針對(duì)氧化、擴(kuò)散 爐的臭氧、高溫水蒸汽環(huán)境做優(yōu)化，250℃、72h 臭氧 / 水蒸氣暴露后 壓縮 變形遠(yuǎn)優(yōu)于競(jìng)品，適配氧化退火工藝。
4. 耐化學(xué)與耐氣體 繼承 FFKM 全氟結(jié) 構(gòu)，對(duì)高溫工藝氣體、蒸汽、部分強(qiáng)酸強(qiáng)堿、有機(jī)溶劑具備良好耐受性
5. 可選低粘著版本 DU551 (E) 相比普通 DU551 粘著力降低 50‑70%，解決高溫工況密封圈與金屬閥座粘連、閥 門動(dòng)作卡頓問(wèn)題，縮短密封件拆裝維護(hù)時(shí)間。

2. 耐熱性能

• 行業(yè) 耐熱等級(jí)，優(yōu)于 EPDM、FKM、VMQ 等絕大多數(shù)橡膠 材料。
• 長(zhǎng)期耐受325℃高溫工況；長(zhǎng)時(shí)間高溫 下重量損失（釋氣析出）低，不易發(fā)生材料溶解，降低設(shè)備內(nèi)部污染風(fēng) 險(xiǎn)。
• 壓縮 變形（密封彈性指標(biāo)）：數(shù)值越 小，長(zhǎng)期密封穩(wěn)定性越好。

三、適用應(yīng)用領(lǐng)域與工藝場(chǎng)景

1. 半導(dǎo)體熱處理工藝設(shè)備

• 擴(kuò)散爐 Diffusion、氧化爐 Oxidation、LPCVD 低壓化學(xué) 氣相沉積、Lamp Anneal 燈管退火、ALD 原子層沉積設(shè)備腔體密封；
• 適用溫度區(qū)間：25‑300℃，高溫腔體、爐門、管路、閥 門 O 型圈、墊片密封件。

2. 高溫化工成套設(shè)備 高溫工況下，耐工藝氣體、蒸汽的腔 體、閥門密封。